BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定

作者:标准资料网时间:2024-04-28 16:11:18 浏览:8093 来源:标准资料网

【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis.Chemicalmethodsforthecollectionofelementsfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheirdeterminationbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy
【原文标准名称】:表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
【标准号】:BSISO17331-2004+A1-2010
【标准状态】:现行
【国别】:英国
【发布日期】:2005-03-31
【实施或试行日期】:2005-03-31
【发布单位】:英国标准学会(GB-BSI)
【起草单位】:BSI
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:化学分析和测试;定义(术语);含量测定;精整;印制电路板;特性;硅;硅片;光谱学;表面;全反射;薄片;X射线;X射线分析;X射线荧光光谱法
【英文主题词】:Chemicalanalysisandtesting;Definitions;Determinationofcontent;Finishes;Printed-circuitboards;Properties;Silicon;Siliconslices;Spectroscopy;Surfaces;Totalreflection;Wafers;X-ray;X-rayanalysis;X-rayfluorescencespectrometry
【摘要】:
【中国标准分类号】:G04
【国际标准分类号】:71_040_50
【页数】:28P;A4
【正文语种】:英语

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